M. Biet-Weber (Erlangen) und M. Farmand (Nürnberg):

Abdrucknahme und Randgestaltung bei Nasenepithesen


Die Nasenepithese stellt eine gute primäre und sekundäre Versorgung nach ablatio nasae dar.Die Abdrucknahme für eine Nasenepithese stellt hohe Anforderungen an das Abdruckmaterial:

Der Rand einer Nasenepithese soll sich im Wangenbereich den mimischen Bewegungen ohne Spaltbildung anpassen. Eine besondere Schwierigkeit stellt die Einbeziehung der Oberlippe und der Nasenflügel in die Gestaltung der Epithese dar.

Der Rand einer Nasenepithese folgt dem natürlichen Formverlauf, insbesondere im Bereich der Nasenflügel. Nasenreste sollten, soweit möglich in die Gestaltung einbezogen werden. Die Positionierung der Implantate ist für die Formgebung und die Randgestaltung entscheidend. Hierfür bietet das EPITEC-System gute Möglichkeiten.

Die Abdrucknahme erfolgt mit einem flexiblen, schnellbindenden Silikon, welches mit Hilfe von Verstrebungen stabilisiert wird. Aufgrund der hohen Standfestigkeit können auch Unterschnitte problemlos abgeformt werden. Die Abdrucknahme dauert ca. 5 Minuten, sodass die Belastung für den Patienten gering ist. Der Verlauf des Randes wird immer möglichst nah am Defekt gewählt, damit die dünn auslaufenden Ränder ausreichen Spannung zur Überbrückung mimischer Bewegungen erhalten und fest genug anliegen, um ein seitliches Entweichen von Atemluft zu vermeiden.

Ein besonderes Problem der Nasenepithese aus Silikon stellt aufgrund der Feuchtigkeit der Atemluft die Besiedelung mit Pilzen dar. Rauchen wirkt sich bei der Nasenepithese negativ auf die Lebensdauer der Epithese aus.

In dem Vortrag werden anhand von Fallbeispielen verschiedene Möglichkeiten der Randgestaltung bei Nasenepithesen gezeigt.



Korrespondenzadresse:
M. Biet-Weber
Poliklinik für Zahnärztliche Prothetik
Glückstr. 11
91054 Erlangen


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